Titanium Strainer

WDL Titanium Strainer provides removal of pipeline solids before pumps, instruments or valves for seawater and desalination plants and chlor-alkali processing. Connections, trim and operation are selected to the project conditions.

Описание

Titanium Strainer

WDL Titanium Strainer provides removal of pipeline solids before pumps, instruments or valves for process systems that need corrosion resistance in seawater, chlorides and many oxidizing media. Titanium forms a stable passive film in many chloride-rich and oxidizing process streams.

Варианты дизайна

ПунктДоступные технические характеристики
МатериалTitanium Grade 2, 3, 5, 7, 12 or project grade
Функцияremoval of pipeline solids before pumps, instruments or valves
СвязиFlanged, threaded or welded
ЭксплуатацияRemovable screen with drain or blowdown connection
Проектные условияASME B16.34, pressure-piping requirements or project standard

Типичные области применения

  • Seawater and desalination plants
  • Chlor-alkali processing
  • Hypochlorite service
  • Pump and equipment protection
  • Process solids removal

Примечания по выбору

Dry chlorine, hydrofluoric acid and strongly reducing media require separate review; titanium is not universal for every acid.

Specify mesh or perforation size, allowable pressure drop, cleaning method and expected solids loading.

Часто задаваемые вопросы

Why select Titanium for this industrial strainer?

Titanium forms a stable passive film in many chloride-rich and oxidizing process streams. Final suitability depends on the complete process conditions and the selected valve trim.

Какая информация необходима для отбора?

Укажите размер, номинальное давление, состав среды, концентрацию, температуру, стандарт соединения, способ эксплуатации и необходимое количество.

Отправьте техническое описание процесса в компанию WDL для проверки материалов, подтверждения размеров и получения коммерческого предложения.

Отзывы

Отзывов пока нет.

Будьте первым, кто оставил отзыв на «Titanium Strainer»

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *